無掩膜光刻機裝置概述：

• 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。

• 使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀，將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進(jìn)行曝光。

• 圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。

• 因為可以在普通的室內(nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極，所以它比電子束光刻便宜且簡單，不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。

無掩膜光刻機應(yīng)用：

• 薄膜FET和霍爾效應(yīng)測量樣品的電極形成。

• 從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。

• 研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。

參數(shù)：

• 由于顯微鏡和DLP的結(jié)合，可以用很低的成本來構(gòu)建系統(tǒng)。

• 易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案。

• 通過物鏡放大倍率圖案，可以進(jìn)行大范圍的批量曝光。

• 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）。

• 分辨率在微米級。

• 曝光范圍：大2.5mm×1.5mm   小100um×60um。

• 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）。

• 分辨率在微米級。

• 曝光范圍：大2.5mm×1.5mm  小100um×60um。